维易科（VEECO）和ALLOS展示行业领先的200MM硅基氮化镓性能，推动micro-LED的应用

维易科（VEECO）和ALLOS展示行业领先的200MM硅基氮化镓性能，推动micro-LED的应用

“使用Propel反应腔，我们就拥有了一项MOCVD 技术，这项技术能够实现高产量的GaN外延，满足在200毫米硅生产线上生产micro-LED器件的所有要求，”ALLOS Semiconductors的首席执行官Burkhard Slischka这样说。“不到一个月时间我们就已经在Propel上对我们的技术进行了验证，并且获得了无裂纹、无回熔的晶圆，翘曲度低于30微米，晶体质量高，厚度均匀性优异，波长均匀性小于1纳米。同Veeco携手，ALLOS期待着将该技术在micro-LED产业中更为推广。”

“和竞争对手的MOCVD平台相比， Veeco的TurboDisc®技术提供的制程窗口更大，因此Propel能提一流的均匀性同时还能获得优良的膜品质，”维易科高级副总裁兼MOCVD运营总经理Peo Hansson博士这样说。“将Veeco领先的MOCVD专业技术和ALLOS的硅基氮化镓外延晶片技术相结合，使我们客户能够开发出低成本的micro-LED，以便于在新的市场中开拓新的应用。”

关于Veeco

Veeco（NASDAQ： VECO）是一家创新半导体工艺设备的领先制造商。我们成熟的MOCVD、光刻、激光退火、离子束和单晶片蚀刻与清洁技术在制造固态照明和显示器LED以及先进半导体器件的制造中起着不可或缺的作用。凭借旨在最大限度地提高性能、产量和拥有成本的设备，维易科在所有这些服务的市场中拥有技术领先地位。要了解更多关于维易科创新设备和服务方面的信息，请访问veeco.com。

关于ALLOS Semiconductors

ALLOS是一家知识产权授权和科技工程公司，帮助全世界半导体行业的客户掌握硅基氮化镓技术并充分发挥其优势。ALLOS正在向提供其专有技术和专利授权，并将其技术转移到客户的MOCVD反应腔中。此外，ALLOS也正在提供针对具体客户的解决方案和下一代硅基氮化镓开发中所面临的挑战的咨询服务。